产品名字: 电子束光刻胶

详细介绍:


  光刻胶型号 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
电子束光刻胶 SU-8 1010 0.1-0.2 0.5um 负性环氧类化学放大光刻胶(可用于做立体结构)
HSQ
XR-1541-006
85nm~180nm 6nm 极佳分辨率负胶,抗刻蚀
正性超高分辨率电子束光刻胶,抗刻蚀
PMMA 很多不同分子量,对应不同分辨率、纵宽比;适用于双层工艺
EBL 6000系列 0.1-0.5 50nm 负性电子束光刻胶
ma-N2400系列 0.1-1.5 30nm 负性电子束光刻胶

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