产品名字: lift off光刻胶

详细介绍:


 

类型 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
Lift off光刻胶 N244 g/h/i-Line 2.2-5.2 4um 负性光刻胶;倒角65-80°
ma-N 1400系列 g/h/i-Line 0.5-7.5 0.5um 负性光刻胶,可用于传统光刻和lift off工艺
LOR/PGMI     g/h/i-Line 0.35-7 0.5um 双层胶工艺
LOL2000 g/h/i-Line 130nm-300nm 0.5um 双层胶工艺
AZ5214 g/h/i-Line 1.1-2 0.5um 反转胶工艺

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